SKIN1004
Madagascar Centella
Innehåller naturlig åkermyntolja och Centella asiatica-extrakt för att kyla och lugna känslig hud – Watergel ark-teknik möjliggör ampulldränkta arkmasker som inte torkar ut – Unik gelbaserad arkmask ger förbättrad essensabsorption och fuktbevarande för att säkerställa tät vidhäftning till huden – Extra mjukt material för känslig hud som inte slits lätt
Centella Asiatica Extract(51%), Water, Dipropylene Glycol, Glycereth-26, Glycerin, 1,2-Hexanediol, Betaine, Butylene Glycol, Paeonia Suffruticosa Root Extract, Polyglyceryl-10 Laurate, Chamomilla Recutita (Matricaria) Flower Extract, Glyceryl Caprylate, Carbomer, Xanthan Gum, Arginine, Ethylhexylglycerin, Sodium Hyaluronate, Dextrin, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Propanediol, Coptis Japonica Root Extract, Mentha Arvensis Leaf Oil, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Glycosaminoglycans, Benzyl Glycol, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Raspberry Ketone, Disodium EDTA
Efter rengöring, applicera arkmasken jämnt över hela ansiktet. Ta bort masken efter 10–20 minuter och dutta sedan försiktigt på huden för att absorbera eventuell kvarvarande essens.
Upptäck mer som Madagascar Centella
Recensera Denna Produkt
Vi tror på din expertis och värnar om din åsikt som hjälper andra att hitta rätt! Därför vill vi gärna höra vad du tycker om våra produkter. Lämna din skönhetsrecension på dina senaste köp och få poäng för din insats som medlem i Eleven Club.